NeedsNo.6561

シーズニーズ情報(半導体加工向けドライエッチングガス)

超微細な線幅が求められる半導体加工向けドライエッチングガスとして用いられるヘキサフルオロ-1、3-ブタジエン(CAS No. 685-63-2)を安価に合成できるアイデアを探しています。

背景:
半導体業界では集積度を上げるために超微細な線幅加工が求められており、その超微細加工にドライエッチング用ガスとしてヘキサフルオロ-1、3-ブタジエンが利用されています。しかしながら、原料が高価、製造過程で発生する反応副生成物reaction by-productが環境に悪影響を与えるため、その処理コストが必要になるなどの状況から、安価に製造できる合成プロセスが求められております。

制約条件:
原料供給、ライセンスなどお取引形態については特に制約条件を設けておりませんが、ヘキサフルオロ-1、3-ブタジエンの販売代理店になることは希望しません。従いまして、研究機関、大学などからの新規合成プロセスのご提案に期待しております。また、既に低コスト技術を確立されている企業様が事業売却をご希望でしたら検討させていただきます。

解決策があると想定される技術領域:
フッ素化学分野

効果・結果に関する要件:
工業生産を踏まえた合成方法のご提案が理想ですが、コンセプトレベルのご提案でも検討させていただきます。コンセプトレベルのアイデアでも実用化の可能性が高いと判断される場合は研究費の協力、共同開発も視野に入れております。出発原料は特に指定しません。新規な合成方法であればTrichloroethylene、Tetrafluoroethylene (CF2=CF2)、1,2-Difluoro-Dichloroethylene (CFCl=CFCl)、Chlorotrifluoroethylene (CF2=CFCl)といった、既に知られている原料をベースにした合成方法のご提案でも構いませんが、それ以外の全く新たな原料をベースとした合成アイデアの提案に期待しております。


【今後の進め方】
ご関心をお持ちの場合、マッチング専用SNS「SNeeedS.com」をご利用いただくか、直接弊社までお問合せ下さい。

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